您的位置：電源在線首頁>>行業資訊>>行業要聞>>英特爾30億在美建晶圓廠正文

英特爾30億在美建晶圓廠

　　據新華社洛杉磯7月25日電 世界最大的芯片生產商美國英特爾公司25日宣布投資30億美元在美南部新建一座300ｍｍ晶圓廠，以進一步提高芯片產量和降低產品成本。
　　
　　英特爾公司在亞利桑那州新建的這座晶圓廠計劃于2007年下半年投產，采用45納米的工藝生產芯片。
　　
　　英特爾目前在愛爾蘭和美國俄勒岡、新墨西哥州有4家300ｍｍ晶圓廠，第5家廠將于今年下半年在亞利桑那州投產。
　　
　　英特爾公司說，其4家300ｍｍ晶圓廠的產量相當于8個200ｍｍ晶圓廠的產量。采用300ｍｍ晶圓生產芯片，可在切割時產生較少的邊角廢料，提高晶圓的利用率，并可使每枚芯片的平均耗電和耗水減少40％，從而明顯降低芯片的生產成本。
　　
　　晶圓由二氧化硅提煉制成，是生產信息產品、信息家電等各種半導體產品所需的材料。大尺寸的晶圓可安排的集成電路更多，但要求材料技術和生產技術則更高。

   免責聲明：本文僅代表作者個人觀點，與電源在線網無關。其原創性以及文中陳述文字和內容未經本站證實，對本文以及其中全部或者部分內容、文字的真實性、完整性、及時性本站不作任何保證或承諾，請讀者僅作參考，并請自行核實相關內容。

關于該條新聞資訊信息已有0條留言，我有如下留言：

請您注意：
·遵守中華人民共和國的各項有關法律法規
·承擔一切因您的行為而導致的法律責任
·本網留言板管理人員有權刪除其管轄的留言內容
·您在本網的留言內容，本網有權在網站內轉載或引用
·參與本留言即表明您已經閱讀并接受上述條款

驗證碼：

用戶名： 密碼： 匿名留言   免費注冊會員