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英特爾30億在美建晶圓廠

2005/7/27 9:40:01   電源在線網(wǎng)
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  據(jù)新華社洛杉磯7月25日電 世界最大的芯片生產(chǎn)商美國英特爾公司25日宣布投資30億美元在美南部新建一座300mm晶圓廠,以進(jìn)一步提高芯片產(chǎn)量和降低產(chǎn)品成本。
  
  英特爾公司在亞利桑那州新建的這座晶圓廠計劃于2007年下半年投產(chǎn),采用45納米的工藝生產(chǎn)芯片。
  
  英特爾目前在愛爾蘭和美國俄勒岡、新墨西哥州有4家300mm晶圓廠,第5家廠將于今年下半年在亞利桑那州投產(chǎn)。
  
  英特爾公司說,其4家300mm晶圓廠的產(chǎn)量相當(dāng)于8個200mm晶圓廠的產(chǎn)量。采用300mm晶圓生產(chǎn)芯片,可在切割時產(chǎn)生較少的邊角廢料,提高晶圓的利用率,并可使每枚芯片的平均耗電和耗水減少40%,從而明顯降低芯片的生產(chǎn)成本。
  
  晶圓由二氧化硅提煉制成,是生產(chǎn)信息產(chǎn)品、信息家電等各種半導(dǎo)體產(chǎn)品所需的材料。大尺寸的晶圓可安排的集成電路更多,但要求材料技術(shù)和生產(chǎn)技術(shù)則更高。
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